工業凈化技術和生物凈化技術必然會隨著科學技術的發展和工業產品的快速發展而迅速發展，并成為現代工業生產和科學實驗活動必不可少的重要技術標志之一。

　　目前，恒溫恒濕凈化技術已廣泛用于各個行業或其他環境控制要求中，以防止顆粒污染和微生物污染。由于各個行業之間的差距很大，要求也不同，因此控制環境的內容和指標也有所不同。以下是常見的工業京哈技術要求的摘要。

　　1.藥品生產的恒溫恒濕凈化室要求

　　藥品是用于預防和治療疾病以及恢復和調節身體功能的特殊商品。它們的質量直接關系到人類健康和安全。如果在制造過程中某些藥物被微生物，灰塵顆粒等污染或交叉污染，則可能會發生意外的疾病和危害。

　　2.醫療應用和醫學研究中對恒溫恒濕凈化室的要求

　　以集成電路為代表的工業環境控制大多使用工業凈化技術和工業凈化室。在醫學上，生物凈化室主要用于控制微生物污染。在生物凈化室中，這些微生物主要由細菌和真菌組成，粒徑為0.2um或更大，普通細菌的粒徑為0.5um或更大，并且大多數細菌附著在其他顆粒上。生物污染通道不僅通過空氣傳播，而且還與操作人員的人體和衣服有關。

　　在醫學研究領域，還非常需要用于生物化學和醫學實驗的生物實驗室，無菌實驗室和“特殊飼養的動物”繁殖室來控制微生物污染。

　　3.生產精密機械和精細化工產品的恒溫恒濕凈化室要求

　　隨著科學技術的發展，許多工業產品的生產和加工對生產環境中的粉塵濃度提出了極高的要求，這就要求生產環境中一定程度的空氣清潔度以及控制生產所需的各種相關物質。處理。供應質量。例如，在膠片生產中，如果膠片被灰塵污染，乳液將被氧化，活性將減弱，pH值將發生變化，這將影響膠片的感光性能。

　　4.半導體和集成電路生產的恒溫恒濕凈化室要求

　　半導體材料的純化是開發半導體器件的重要基礎。由于大規模和超大規模集成電路的工藝要求，為了獲得高純度的硅材料，原材料和中間體的高純度以及生產??環境的清潔度已成為影響產品質量的突出問題。 。

　　集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關，而芯片的缺陷密度與空氣中的顆粒數量有關。因此，集成電路的飛速發展不僅對控制空氣中的顆粒尺寸有很高的要求，而且還需要進一步控制顆粒的數量。同時，對VLSI生產環境中化學污染的控制也有相關要求。

　　5.化妝品和食品生產的恒溫恒濕凈化室要求

　　大多數現代化妝品都包含蛋白質，維生素，氨基酸，植物提取物等。這些成分為細菌，霉菌和其他微生物的生長和繁殖提供了有利條件。因此，微生物污染是影響化妝品質量的重要因素?；瘖y品生產過程中使用的潔凈室的控制對象主要是灰塵顆粒和微生物，與藥品生產的潔凈室要求相似。目前，化妝品生產用潔凈室的空氣潔凈度水平可參照藥品的GMP規定執行。

　　在食品工廠的生產過程中，嚴格的設施管理是確保食品安全衛生的重要手段，也是防止致病性大腸菌和沙門氏菌或飲料中霉菌混入食物中毒的重要手段。從1990年代至今，WHO和一些發達國家引入了HACCP(危害分析關鍵控制點)系統，并制定了使用生產過程衛生管理的食品生產識別系統。